2011年7月12日 星期二

日本最近修法概要

日本6/8/2011公佈專利法修法(一年內實施)主要為四大部份:
強化授權協議、共同研發的發明人權益、方便的智權系統、快速有效的審判系統

強化授權協議的保護:
若專利權人的授權協議未在JPO登記,被授權人對於專利權的關聯可能因此產生不確定的風險,目前此登錄機制有些困難。此次修法將改善這樣的授權機制,即便並未在智慧局登錄

共同研發的發明人權益:
對於常見的共同研發的現象,則可能僅有一方獲得專利權,但對於此類事件,通常解決方式就是「撤銷」專利,各方都無法獲得專利權。本次修法方向則是讓發明人可以「取回」專利權

方便的智權系統:
為了給使用者一個方便,提供中小規模的企業3年到10年年費減免,對於設計專利則是提供第11年以後的減免
在目前的系統下,即使發明人學術發表發明內容,其獲得的專利並未有任何認定(not recognized)。新的修法則保障發明人在公開揭露之後仍可獲准專利,而不論公開的形式

快速有效的審判系統:
在目前的系統下,對於專利權的爭論,到了法院訴訟之後,所做出的決定、修正仍要發回智慧局(JPO)執行,包括修正,或是作出專利權無效或有效決定。新的修法則提供申請人在提出訴訟之後,可以在訴訟過程中對專利案修正,或是提出修正審判(correction trial)來修訂,不用回到智慧局。

Ron
資料來源:HARAKENZO

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