日本最近變動

日本工業財產法（包括專利法、商標法等）修法

1. 登記系統中非獨占授權的再審（4/1/2009實施）
修法前：
(1)獨占與非獨占授權登記僅能適用於專利，而不能適用於審查階段的申請案
(2)非獨占授權是針對大眾，所以不可能針對商業秘密上
修法後：
(1)在專利審查階段可採用臨時的獨占或是非獨占授權，故引入關於臨時授權的登記系統，故專利申請案的臨時授權可對抗第三者
(2)可限制非獨占授權中的揭露程度，也就是，若對第三者揭露了原應揭露給特定對象的內容，非獨占授權或是臨時非獨占授權都會對被授權人造成損害；而獨占授權或是臨時獨占授權應完整揭露給授權對象

2. 延長提出訴願的期限（4/1/2009實施），可參閱
http://enpan.blogspot.com/2009/03/blog-post_6666.html
修法前：
應於官方做出拒絕審定後30日內提出訴願（可於提出訴願後30天內再提出修正）
修法後：
專利申請案的規定，訴願的期限是發出拒絕審定通知後3個月內（外國人為4個月）提出訴願，但修正應於提出訴願當時提交
設計申請案，不論日本居民或是外國人，提出訴願的期限皆為發出拒絕審定後3個月內

3. 擴展採用優先權文件的電子交換系統的國家（4/1/2009實施）

4. 降低專利與商標官方費用

資料來源：HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK, JPO
補充：
日本智慧財產權保護標的包括有
(a) Inventions(Patent Law)
(b) Utility Models(Utility Model Law)
(c) Designs
(*designs Design Law)
(*product form laws to stop unfair competition)
(d) Trade Secrets (manufacturing technologies,customer lists,etc.)
(laws to stop unfair competition)
(e) Integrated Semiconductor Circuits
(laws for protection of semiconductor chips)
(f) Copyright (novels, music, etc.)
(Copyright Law)

Ron