設計專利的延續案

設計專利的延續案

美國設計專利的延續案同樣如發明專利一般受到美國專利法第120條的規範（保護）
可參考：http://enpan.blogspot.com/2010/01/120.html

一些規定：
. 設計專利延續案應在母案存續（pending）時提出
. 母案不得為臨時申請案（provisional application）
. 符合美國專利法第120條的延續案包括延續案（CA）、分割案（divisional）與部份延續案（CIP）
. 延續案與分割案內容應完整揭露於母案中
. 設計專利延續案說明書同樣需要註明母案的申請號、申請日與名稱
. 設計專利母案若不符合美國專利法第112條的規定，延續案如CIP案即使補足了揭露不足的部份，仍不符引用120條前案申請日的延續案條件
. 設計專利的延續案不得修改母案的形狀與結構，否則不符120條規定
. 設計專利延續案可以將母案部份線條改為虛線，並不會認定其改變形狀與結構（In re Salmon, 705 F.2d 1579, 217 USPQ 981 (Fed. Cir. 1983)）
. MPEP 1504.20特別提到，除非有需要（如interference, 先前技術介入），否則審查委員可以不必審查設計專利CIP案是否有符合專利法第120條的條件（一般來說，設計專利CIP案會被視為與母案不同的設計）

範例：iPhone圖形使用者介面設計專利
一篇2007申請的設計專利母案（D604305）：

此母案有許多子孫案

比如D608366

還有D627790



中間有已遭到終駁的UI設計：


Ron