日本專利制度與各程序流程

日本專利局目前架構如下：
專利局下有幾個局處，分為策略計畫與協調、商標與客戶關係、物理光學類的專利與設計審查、機械類的專利審查、化學材料類的專利審查、電子類專利審查、訴訟與訴願等。

目前的人員有審查官、行政法官，2013年共有2800多人，最多的是專利審查官。

發明專利程序：
審查與訴願程序，專利申請案提出後，可以在三年內提出實審請求，先經形式審查，之後實際審查，若遭遇核駁，可以提出答辯與修正，直到獲准專利。
特別的是，可以參考其中黃底的步驟，未經審查的案子可以根據請求而公開，亦有18個月早期公開制度。遭遇核駁後，可以提出修正，最終核駁後，可於三個月內提出訴願程序，提出訴願後還可修正，針對訴願駁回還有一次機會答辯與修正。
如果不服訴願決定（專利未准），可以繼續上訴到智慧財產權高等法院（IP high court），更進而可上訴到最高法院（supreme court）。
另有針對核准專利的無效程序，不論無效是否成立，都可上訴到智慧財產權高等法院、最高法院。


新型專利程序：
提出新型專利申請案後，僅會有形式審查，期間可能會因為形式不符而核駁，可以對此補正。若通過形式審查，將完成登錄與公告，之後可以請求技術報告（report of technical opinion）。

設計專利程序：
日本設計專利採實審制，先經形式審查，再經實際審查。程序如同發明專利。
審查核駁後可以答辯與修正，最終核駁後可於三個月內提出訴願程序，同樣可對訴願駁回提出答辯與修正。
設計專利獲准後，可提出無效。設計專利不准或是無效後，可以提出後續訴訟，都可上訴到智慧財產權高等法院、最高法院。

商標程序：
一旦提出商標申請案，進行形式審查與實際審，同時申請案會被公開。
審查後，如被核駁，可以提出答辯意見與修正，若最終被駁回，可於三個月內提出訴願，對於訴願決定可以答辯與修正。
商標一旦獲准，將會公告在公報中，此時有兩個月可以提出異議（opposition），異議結果可能包括撤銷、與維持。
可以針對獲准商標提出無效程序（invalidation），結果可能是撤銷商標或是維持，不論異議或無效是否成立，都可上訴到智慧財產權高等法院、最高法院。

其他參考：
發明專利程序另一參考：
http://enpan.blogspot.tw/2012/09/blog-post_7.html
日本專利/新型/商標訴願程序修正：
http://enpan.blogspot.tw/2009/03/blog-post_6666.html
日本專利訴願與行政訴訟：
http://enpan.blogspot.tw/2010/03/blog-post_31.html
日本訴願制度：
http://enpan.blogspot.tw/2009/10/appeal-procedure.html

資料來源：http://www.jpo.go.jp/shiryou_e/toushin_e/kenkyukai_e/pdf/annual_report2013/part5.pdf
Ron