美國設計專利教戰守則

http://www.uspto.gov/web/offices/com/iip/pdf/brochure_05.pdf

與美國設計專利相關的法規有：
35 U.S.C. 171（應用在物品上新的、原創的、裝飾性的設計，可以取得設計專利）
35 U.S.C. 171 Patents for designs.
Whoever invents any new, original, and ornamental design for an article of manufacture may obtain a patent therefor, subject to the conditions and requirements of this title.
The provisions of this title relating to patents for inventions shall apply to patents for designs, except as otherwise provided.

35 U.S.C 172（設計專利優先權期限：6個月）
35 U.S.C. 173（設計專利期限：自核准日起14年）
35 U.S.C. 173 Term of design patent.
Patents for designs shall be granted for the term of fourteen years from the date of grant.

35 U.S.C. 102（新穎性與排除條款）
35 U.S.C. 103（顯而易知性）
35 U.S.C. 112（說明書揭露規定）
35 U.S.C. 132（審查通知與再審）

細則部份則有：
37 CFR § 1.84（繪圖標準）
37 CFR § 1.152（繪圖規定）
37 CFR § 1.121（修正規定）
37 CFR § 1.63（宣誓書）
37 CFR § 1.76（申請人資料，ADS）
37 CFR § 1.153（設計名稱、說明（可以不要）、僅允許一項權利範圍）
37 CFR § 1.154（設計申請案說明書內容，名稱、說明、用途等）
37 CFR § 1.155（設計申請案加速審查：申請人提出先行審查檢索報告、費用（大實體900美元））

透過一個物品的各種表達方式展示一些範例：
整個物品範例：

僅表示可見的表面：

表示背面為平的，沒有裝飾圖案，就可忽略不畫（可以敘明）：

僅主張花紋圖案，不包括物品本身：


一些圖式表達方式：
實線陰影：

點畫與陰影：

實線陰影與點畫陰影的組合：

透明材質：

虛線表示：

爆炸圖：

一個物品多種樣態：

中段忽略：

剖視圖：

多種實施例：

材質表達：

各種材質表示：

細節規定可參考以下這個文件，將整個設計專利的需要整理起來，包括如何畫圖、彩色還是黑白、陰影、虛線如何表示等！

http://www.uspto.gov/web/offices/com/iip/pdf/brochure_05.pdf

Ron

AFCP 2.0 延長一年

AFCP 2.0 （After Final Consideration Pilot）延長一年到2015/9/30。
顯然AFCP的方案受到大家喜愛，重點是可以解決審查委員積案的問題。AFCP可以解決在Final Office Action之後一些需要面詢、似乎可以獲准（僅需要有限的檢索）卻又不確定而可能需要提RCE的案件。

一些部落格資料：
http://enpan.blogspot.tw/2013/05/acfp-20.html
http://enpan.blogspot.tw/2013/12/afcp-20.html
（獲准範例）http://enpan.blogspot.tw/2014/05/afcp20.html

自2013年5月開始AFCP 2.0，經一年延長到今年2014年9月後，USPTO又決定繼續延長到2015年9月，並且加入新的特色：PTO-2323表格。

在AFCP 2.0提出時，申請人應該提出隨同一些意見的修正方案，特別是對獨立請求項的「限縮」修正，經審查委員依照修正方案進行審查與必要的面詢後，申請人會收到一些回應，包括面詢摘要，而新的表格會揭示審查委員的審理過程。

AFCP 2.0指導方針：
http://www.uspto.gov/patents/init_events/afcp_guidelines.pdf

Ron

一個CIP案新增部分主張國外申請案優先權的範例

美國專利制度中Continuation-in-Part（CIP，部分延續案）的制度讓申請人在持續研發與持續更新的發明佈局上提供很有彈性的方案。

情況：
當有發明人提出一個專利申請案母案，只要該申請案所載技術已經有後續發展，產生新的技術特徵，如果並不想要另外提出一個美國申請案，就可以考慮在此母案加入新增特徵，提出CIP申請案。一般情況可能是，母案遭遇前案阻礙的核駁理由而難以答辯時，新增技術可以克服這些先前技術的阻礙，提出CIP案是個後續方案之一。

如果發明人在CIP案中新增的技術在國外已經有一先申請案，且在欲提出CIP案的申請日前一年內，這新增技術的部分可以主張國外先申請案的優先權（部分優先權），但此外國申請案不得已經主張另一優先權。

相關記載可以參考：http://enpan.blogspot.tw/2012/11/cip.html

範例：
先看一下Google頁面的資訊，非常衝突的資訊是此案申請日在2013年，但優先權日卻記載在2000年！！！（updated on Oct. 1, 2014）

US20140103700，此案的先前申請案資訊頗為複雜，在cross-reference to related applications的部分記載了此申請案所引用的先申請案的好處。
此申請案（申請號：14/105,530）為在前申請案12/859,116的延續案（CA）；此CA案為在前申請案11/080,368的延續案（CA）；此CA案又為在前申請案10/795,803的CIP案；此前申請案10/795,803主張荷蘭申請案NL1024565的優先權，又同時是在前美國申請案10/619,926的CIP案；而此申請案10/619,926則又主張另一荷蘭申請案NL1022873的優先權，也同時是美國申請案10/205,405的CIP案；此申請案10/205,405為一國際申請案PCT/NL01/00054的後續案（PCT進入美國階段）；此PCT申請案則主張了荷蘭申請案NL1014182的優先權。

CROSS-REFERENCE TO RELATED APPLICATIONS

This application is a continuation of application Ser. No. 12/859,116, filed Aug. 18, 2010, which is a continuation of application Ser. No. 11/080,368, filed Mar. 15, 2005, which is a continuation-in-part of application Ser. No. 10/795,803, filed Mar. 8, 2004, which claims foreign priority to Dutch Patent Application No. NL1024565, filed Oct. 17, 2003 and is a continuation-in-part of application Ser. No. 10/619,926, filed Jul. 15, 2003, which claims foreign priority to Dutch Patent Application No. NL1022873, filed Mar. 7, 2003 and is a continuation-in-part of application Ser. No. 10/205,405, filed Jul. 26, 2002, which is a continuation of International Application No. PCT/NL01/00054, filed Jan. 26, 2001, which claims priority to Dutch Patent Application No. NL1014182, filed Jan. 26, 2000. All of the above-referenced applications are hereby incorporated herein by reference in their entirety.

這件有個複雜血統的各在前申請案中，有兩次CIP案同時在新增技術時，同時主張了其外國申請案的優先權。

申請案10/795,803主張荷蘭申請案NL1024565的優先權，又同時是在前美國申請案10/619,926的CIP案：
此申請案（申請號：10/795,803；申請日：2004/3/8）為另一美國申請案10/619,926（申請日：2003/7/15）的CIP案，但同時也主張了在2003年3月7日的荷蘭申請案NL1024565的優先權。（這裡時間差一天，可能有遇到假日？）

此案主張35USC120的前案好處：

同時主張外國優先權：


申請案10/619,926主張另一荷蘭申請案NL1022873的優先權，也同時是美國申請案10/205,405的CIP案：
此申請案（申請號：10/619,926；申請日：2003/7/15）的檔案資料顯示同時為前案的CIP案，並同時主張外國優先權。

先前美國申請案：

同時主張外國優先權：

Ron

俄羅斯專利（RUPTO） - 用專利學地理

俄羅斯是是原蘇聯1991年解體後的最大的聯邦共和國，也是全世界土地最大的國家，從地圖可以知道東邊接著太平洋、北邊是北極海，南接中國、蒙古、哈薩克以及內陸海裏海，西臨烏克蘭、白俄羅斯、芬蘭，以及資源豐富的黑海。

俄羅斯國旗

俄羅斯專利局：http://www.rupto.ru/en_site/index_en.htm
俄羅斯專利法規定在民法中：http://www.rupto.ru/rupto/nfile/3b05468f-4b25-11e1-36f8-9c8e9921fb2c/Civil_Code.pdf，涉及發明、新型、工業設計、商標、服務標章等（inventions, utility models, industrial designs, selection attainments, trademarks, service marks）規範。



一些重點：

• 俄羅斯有發明、新型專利，取得專利的要件同樣有產業利用性、新穎性與進步性。
• 一專利一發明，不得一發明重複專利
• 法定不予發明或新型專利事項有：人類複製技術、基因修飾、違反善良風俗的技術，其他還有純粹的發現、美術、致力活動規則與方法、植物與動物的物種以及相關生產的生物方法。
• 與一些國家不同的是，人類或動物的外科手術、治療方法、診斷方法為可專利標的。
• 專利審查程序與多數國家一致：
  步驟一：形式審查（Formal examination），優先權、早期公開、PCT等程序與一般一致
  步驟二：實質審查（substantive examination），申請日後三年內應提出實際審查要求，否則視為撤回
  步驟三：申請要求，包括翻譯為俄文、修正不得超出原申請說明書範圍、請求項5項，超出會多收費用
• 新型專利原本為登記制，期限10年，但今年10月開始改為實際審查制。
• 新型專利可改請發明，發明專利可改請新型。
• 設計專利期限15年。
• 提供無效、訴願與訴訟制度。
• 法院程序：
  申請人針對專利無效可以提出上訴（仲裁，三個月內）
  一審為仲裁法院
  二審為高級仲裁法院

俄羅斯共和國雖然大，也貴為前幾名經濟體，但是人民應該很辛苦，專利量也不成比例，一些統計資料（資料來源：WIPO）可以看出：

專利一年約3萬多件申請案，逐年增加，申請人多數為俄國自己人，產業應該有一定的程度，但外國申請案不多，從PCT進來的算少。專利每年核准1萬8千多件。商標申請量比專利多：




專利技術類別頗平均，但可看出化學醫藥類最多：


俄羅斯專利有新型制度，最近才修法改為實審制，若以數量來看，俄國自己人的申請案有1/3為新型申請案：


商標申請案最多，申請人國內外差不多：


補充：
俄羅斯新型制度可以參考一下（10/1/2014開始實施）
最近俄羅斯新型專利制度修法，將原本登記制新型改為實審制，在主張專利權時，新型專利不能適用均等論，也就是說，新型專利權的主張範圍將被限縮，不及於文字上的均等範圍。

新型專利僅允許一組獨立範圍，不允許獨立項以外的替代特徵納入請求範圍。

發明與新型專利審查過程中僅允許一次主動修正，而且修正不能修改原本說明書所載的技術效果。

接獲官方審查意見時（包括形式與實質審查），回應形式審查期限可延長至3個月（原本是2個月），回應實審意見的期限由2個月延長到6個月。

資料來源：
WIPO、Wikipedia

Gorodissky & Partners (http://www.gorodissky.com/)

Ron

日本專利制度與各程序流程

日本專利局目前架構如下：
專利局下有幾個局處，分為策略計畫與協調、商標與客戶關係、物理光學類的專利與設計審查、機械類的專利審查、化學材料類的專利審查、電子類專利審查、訴訟與訴願等。

目前的人員有審查官、行政法官，2013年共有2800多人，最多的是專利審查官。

發明專利程序：
審查與訴願程序，專利申請案提出後，可以在三年內提出實審請求，先經形式審查，之後實際審查，若遭遇核駁，可以提出答辯與修正，直到獲准專利。
特別的是，可以參考其中黃底的步驟，未經審查的案子可以根據請求而公開，亦有18個月早期公開制度。遭遇核駁後，可以提出修正，最終核駁後，可於三個月內提出訴願程序，提出訴願後還可修正，針對訴願駁回還有一次機會答辯與修正。
如果不服訴願決定（專利未准），可以繼續上訴到智慧財產權高等法院（IP high court），更進而可上訴到最高法院（supreme court）。
另有針對核准專利的無效程序，不論無效是否成立，都可上訴到智慧財產權高等法院、最高法院。


新型專利程序：
提出新型專利申請案後，僅會有形式審查，期間可能會因為形式不符而核駁，可以對此補正。若通過形式審查，將完成登錄與公告，之後可以請求技術報告（report of technical opinion）。

設計專利程序：
日本設計專利採實審制，先經形式審查，再經實際審查。程序如同發明專利。
審查核駁後可以答辯與修正，最終核駁後可於三個月內提出訴願程序，同樣可對訴願駁回提出答辯與修正。
設計專利獲准後，可提出無效。設計專利不准或是無效後，可以提出後續訴訟，都可上訴到智慧財產權高等法院、最高法院。

商標程序：
一旦提出商標申請案，進行形式審查與實際審，同時申請案會被公開。
審查後，如被核駁，可以提出答辯意見與修正，若最終被駁回，可於三個月內提出訴願，對於訴願決定可以答辯與修正。
商標一旦獲准，將會公告在公報中，此時有兩個月可以提出異議（opposition），異議結果可能包括撤銷、與維持。
可以針對獲准商標提出無效程序（invalidation），結果可能是撤銷商標或是維持，不論異議或無效是否成立，都可上訴到智慧財產權高等法院、最高法院。

其他參考：
發明專利程序另一參考：
http://enpan.blogspot.tw/2012/09/blog-post_7.html
日本專利/新型/商標訴願程序修正：
http://enpan.blogspot.tw/2009/03/blog-post_6666.html
日本專利訴願與行政訴訟：
http://enpan.blogspot.tw/2010/03/blog-post_31.html
日本訴願制度：
http://enpan.blogspot.tw/2009/10/appeal-procedure.html

資料來源：http://www.jpo.go.jp/shiryou_e/toushin_e/kenkyukai_e/pdf/annual_report2013/part5.pdf
Ron

日本專利狀態（主要是2012年）

從趨勢來看，日本專利申請案在這幾年有下降的趨勢，主要是發明申請案明顯下降，新型申請案有起伏，但整體趨勢也是下降，這可能與這幾年經濟不佳使得企業節省研發經費有關。
（資料來源：EPO）

從一個國家的專利統計資料除了"知道"以外，其實都可以看出一些趨勢，包括相對來說各國在該國的競爭力，在該國專利的獲准、無效等機率，藉此可以作為設定專利佈局策略的依據。

先看包括2013的統計，至少反映出發明與新型專利申請案量：

年度報告暫時就統計到2012年，但資料比較豐富。
每年37萬件的發明審查案件仍是十分驚人，發明與新型的申請量不如過去盛況。

商標與設計專利都有下降的趨勢，這些自然會影響將來的核准量。

各類申請案中，日本人自己的申請量為多數，外國申請案相對少很多。

從各國進入日本的發明專利申請量可以看到各國仍重視日本專利，各個國家國人申請日本專利的統計表如下，不論是直接申請日本或是透過PCT進入日本，2012年除日本自己之外，外國申請人最多的是美國人，其次是德國人、韓國人，再是法國、瑞士與中國，英國、荷蘭與瑞典也頗多，台灣人也有1300多件，僅次於英國。除了量少波動很大的國家以外，申請量大的國家中，中國人進入日本申請量成長最高。

毫無意外，台灣人最愛日本新型專利！

從專利再審、訴願、舉發等爭議案來看，發明專利自然是最多的，但值得注意的是，每年有2萬多件爭議案，如果是專利審查的爭議，透過再審程序獲准專利的比例頗高，有1萬3千多件，訴願成功的有8千多件，訴願不成功的有6千多件。
新型專利的爭議是「零 」，這是最沒有爭議的專利型態（台灣企業還是找最省事的方式來佈局），設計與商標每年另有幾百件。

從無效訴訟來看，案件相對少很多，但是卻可以知道日本專利一旦獲准，就比較難以撼動專利權，但機會還是有就是了。新型專利要面對的無效訴訟少很多，理由不外乎是爭議少、專利權相對不穩定、各國不重視等。

從審查平均時間來看，看到專利審查時間在2012年有頗大的進步，「第一次OA」平均審查時間少了近6個月，降到20個月左右，一年8個月的審查時間可讓大家看出日本專利審查效率成效。其他是，設計專利審查有6個月，商標平均4.7個月。發明專利的訴願時間也降到16個月。值得注意的是，無效訴訟6個月就有決定。

資料來源：EPO、日本專利局年度報告（http://www.jpo.go.jp/shiryou_e/toushin_e/kenkyukai_e/pdf/annual_report2013/part5.pdf）

Ron