日本最近修法整理

自2009年4月1日起改變：
(1)針對核駁審定後提出上訴的時間（period for filing an appeal）
(2)授權登錄系統（license registration system）

(1)
舊法：在核駁審定（decision of rejection）後30日內應提出訴願（appeal），外國人有90天，再於訴願後30日內可提出修正

新法則修訂為核駁審定後3個月內可提出訴願，外國人則改為4個月

（相較於其他國家：美國3個月、歐洲2個月、中國3個月）

(2)授權登錄系統
之前JPO並未提供相關授權登錄的規定
新規定：就登錄的非排他（non-exclusive）的發明（pending狀態）與新型（公告前）專利權而言，相關受讓人（assignee）與授權範圍的資訊（如被授權人、合約、破產等相關資訊）僅會公開給相關人員（interested parties），並不會公開給大眾

其他修訂：
1. 專利與商標的年費降低，請參閱下表

2.分割案提出的時間與可核准範圍修正

資料來源：Shiga International Patent Office
Ron